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第453章 布局下（第1页）
第453章布局（下）
还没有发生的事情，李建昆自然不好说出来，他只能找别的由头。
“无纺布技术，科院不是早有？一样的道理，他们研发的光刻机成果，主要关在实验室，很难落实到民用。”
他顿了顿，道：“我的意思是，咱们向9003所采购一台最新的光刻机，沿着这个基础，吸纳研究员、培养人才，学习研发，一个目标：赶超世界！
“当然，期间如果有成果，我也会及时孵化出商业价值。据我所知，9003所的二代光刻机，已经能造出一些大规模集成电路。”
值得一提的是，集成电路的制造，光刻机一直是最优解。
但当下这个年代，许多工厂还没用上光刻机，原因在于他们生产的产品，其中涉及的集成电路，不够复杂——
半导体载体上集成的晶体管数量不多。
像是生产收音机、录音机和电视机的这些个工厂，他们主要还是采用蚀刻电路技术。
蚀刻法的劣势很明显，粗犷、笼统，残品率高，无法应用于高精端的集成电路制作。
陈春仙咂舌道：“你懂得可真多啊。”
差一点超过他。
他却不知道，凭借前世当键盘侠时，掌握的那点毛皮，等到他们真的开始研发光刻机时，李建昆说不定时不时还能来记“仙人抚顶”。
比如他知道，第四代光刻机，1986年由ASML率先推出，采用193nmArF激光光源。但在此后将近二十年时间里，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，因而157nm将成为主流技术，可是157nm光刻技术，又遭遇来自光刻机透镜的巨大挑战，始终不得突破。
等于说，光刻机技术几乎停滞发展二十年。
直到2007年，ASML和台积电合作研发出浸没式光刻机。技术细节肯定很复杂，但道理其实挺简单——
将193nm的光波浸没在液体中，它的等效波长缩短至134nm，一举超越157nm的极限。
许多创意的来源，有时还真是灵光乍现。
假如到时候，他跟研究员说“把光投进水里试试”，是不是有了研究方向？
李建昆莞尔一笑，“没听过一句话吗？人无法赚到认知以外的钱。想干这行道，岂能不做番功课？”
陈春仙踌躇着说：“9003所会不会卖哦。”
“你老陈同志是谁？上面发话要大力鼓励和支持的对象，别人不行，你一准成。”李建昆提起铁丝罩暖水壶，给大佬蓄上水。
陈春仙没好气剐他一眼道：“你丫心眼忒大，我跟你讲，研发光刻机这种高精大型设备，本身就是个无底洞！再一个，吸纳劳什子研究员？几个懂行？都得从头摸索、培养！到时绝对花钱如流水，你能撑住吗？”
集国家之力在干的活，你非得自个单干，如此想不开……
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