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第一六五九章 从低端数控系统开始研发（第2页）

副所长张闻桥主持研发的CKX数控单柱移动立式铣车床，安装Sinumerik82D，这套西门子研发的中端数控系统，售价占到这台车床总成本的近一半。

要是新江重能够在18个月内，研制成功拥有自主知识产权的中端数控系统，江重的发展将会迎来新的春天。

数控系统的核心是微机数控系统，国智半导体研究院在CUP、主板、硬盘、显卡、光驱等计算机硬件上的整体研发能力能在全球排在前三位。

众人不知道的是，国智CPU研究所经过近二年的研发，已经研发成功了比肩Intel第八代CPU的GZ-CX5，但需要65nm制程工艺的光刻机生产，避免刺激美国，也是密而不发。

前世，ASML推出65nm制程工艺的浸没式光刻机后，Intel才推出第八代CPU、Core2Duo，AMD才推出比肩Core2Duo的AthlonX2（速龙X2）。

京城光刻机研究院光源研究所早于1999年7月就研制成功浸没式光刻系统技术，研制的ArF激光器发射的193nm光源通过纯净水的折射，得到了波长134nm的光源，解决了业界遇到的193nm波长的世界级难题，研发成功65nm制程工艺的浸没式光刻机试验机，避免刺激美国，密而不发，没有申请公司发明专利，等GCAEUV光刻机股份研制的EUV激光器研发成功后，再申请浸没式激光器的公司发明专利，赶在ASML之前。

浸没式光刻机暂时不会申请公司发明专利。

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134nm波长光源的激光器和浸没式光刻系统专利技术会在第一时间卖给GCA使用。

邓国辉和钱富强从1999年8月开始立项，BSEC投资1亿元，带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发EUV激光器，先后投资了3.6亿元，还在研究之中。

2002年1月18日，由GCA和悟空天使投资基金带头，分别出资5亿美元和2亿美元，加上INTEL、IBM、TI、AMD、摩托罗拉、Cymer、HP、台积电和三星等25家公司，共同出资50亿美元成立的GCAEUV光刻机股份有限责任公司研制的EUV激光器已经临近尾声。

由于重生者的缘故，65nm制程工艺的浸没式光刻机提前研制成功，EUV光刻机也会提前研制成功。

2002年8月，参加7月2日在布鲁塞尔举行的157nm微影技术的研讨会后，ASML董事长兼总裁普拉多同台积电的林本坚博士合作，采用“浸润原理”，投入巨资，开始研制浸没式光刻机。

邓国辉院士在研讨会上支持林本坚博士提出的“浸润原理”，并表示京城光刻机研究院光源研究所正在研究“浸润原理”，这三年，邓国辉和钱富强等先后在《ScienceAdvances》上，发表7篇研究浸没式光源系统和浸没式光刻机技术的科研论文，在光刻机行业引起轰动。

半导体专家预测，二年内，浸没式光刻机将被研制成功。

Intel对Core2Duo，AMD对AthlonX2的研制开始加速。

（本章完）