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第三百零九章 28纳米自主可控（第6页）

至于更进一步的18纳米以及十四纳米，甚至十纳米工艺这些，这就需要使用双重曝光技术，这对套刻精度要求更高，要求能够达到三点五纳米的套刻精度……

这也是为什么说十八纳米工艺节点有些尴尬的原因，因为用来生产十八纳米的光刻机，它也能用来生产十四纳米。

同样的设备，我为啥不生产十四纳米工艺的芯片？

但是再往下的七纳米，这就需要使用四重曝光，这对套刻精度提出了更进一步的要求，常规来说需要达到二点五纳米的套刻精度，如此才能够让良率稳定在一定的水准。

如果套刻精度不足的光刻机，强行采用四重曝光生产七纳米芯片，良率会非常低，成本非常高昂，除非特殊情况，不然没人这么干的。

而海湾科技目前的目标，就是进一步缩小套刻精度，争取做到二点五纳米的水准，然后满足七纳米的生产需求。

不过这也挺难的，这可是实打实的物理极限的提升，每一纳米的套刻精度提升都是无比艰难的。

当然，二点五纳米套刻精度的光刻机，现在海湾科技还搞不出来，甚至三点五纳米套刻精度的光刻机，现在也磕磕绊绊，还得继续琢磨，估计下半年才能小批量供货测试，大规模量产使用，那都得明年去了。

但是，现在的五点五纳米套刻精度的HDUV-400光刻机，却是已经成熟可用了……智云微电子那边都用这款光刻机，大规模投产二十八纳米工艺的芯片了。

如果是用来生产三十二纳米工艺，四十纳米工艺或四十五纳米工艺这些更成熟的工艺，那就更不用说了，小菜一碟！

甚至都可以来上一句性能过剩。

智云微电子那边，开始使用HDUV-400光刻机进行投产，这个消息，让业内不少关注国产光刻机的其他芯片厂商看了大为动心。

他们也想要这种便宜好货，来大幅度降低先进工艺的资金投入啊。

海湾科技的光刻机，虽然整体性能差了点，比不过ASML的光刻机，但是人家卖的便宜啊，不仅仅售价便宜，后续的维护费用也便宜。

这就让很多资金不是很充裕的晶圆厂很动心！

反正他们也没什么野心搞更先进的双重曝光，玩什么十八纳米，十四纳米工艺，他们就想玩个四十五纳米工艺，撑死了再搞个二十八纳米工艺。

这个海湾科技的HDUV-400光刻机，已经很充分了。

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不久后，中芯方面也随后正式宣布，他们采购的首台量产型HDUV400光刻机已经进入产线，并投入四十纳米工艺储存芯片的生产。

同时他们还准备利用这一款光刻机，来筹建第二条28纳米工艺产线。

国内的其他芯片制造厂商看了，就更加坐不住了……国内半导体领域里的老大和老二都已经开始用了，我们也要用啊！

于是纷纷找到了海湾科技，希望他们加速供货。

对此，海湾科技方面是欢喜无比的同时也苦不堪言……这HDUV-400光刻机的订单太多，而他们的产能也是有限的，短时间里根本无法提供这么多的光刻机。

但是有太多人找上门来，还各种找关系说人情，把海湾科技方面的人给弄的都怕了。

光刻机这东西，又不是大白菜，海湾科技也只是个负责系统整合的组装厂商而已，很多时候都不是他们想要提升产能就能提升产能的，得后头一大串的供应商都提升产能才行。

比如核心的镜片。

别看只是镜片，但是它却是一台光刻机里的核心零部件，而这种超高精度的镜片的加工极其困难，复杂，南方光学里加工这种超高精度的镜片的产能是极为有限的。

这些镜片，都是由业内最顶级的工程师，操作离子束抛光机等顶级先进设备，然后一点一点加工出来的。

整个生产过程的工艺极其复杂。

这产能自然也是有限的，这第一年里能够给海湾科技提供个四十多套的镜片，那就已经是加班加点的成果了，再多……那是不可能的。