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第五百章 先加入一点点黑科技（第2页）
卡森看完邮件，咽了咽口水，在佩服许青舟可怕的数学实力的同时，又有些怀疑，做实验前，他当然也已经把资料烂熟于心，还是第一次见到这个东西。
看起来有点玄乎，因为许青舟在资料里边标记了，如果成功，Tc可以从18K→到25K（液氢温区），Jc能从1×10到3×10Acm。
这个什么概念呢，其他团队还在做老年机，他们就已经拿出智能机的图纸了。
许青舟言简意赅：“这涉及拓扑态设计与超快动力学控制，简单来说，石墨烯的狄拉克锥和NbSn的库珀对形成协同效应，增强电子-声子耦合强度，从而提升超导临界温度。”
狄拉克锥，指石墨烯的线性色散关系使其表面电子具有超高迁移率和独特的量子隧穿特性。
库珀对则是通过电子-声子相互作用形成的。
他曾经在设计量子点与光子晶体腔的界面时意外发现，这两个东西通过合适的方式凑在一起，会有意想不到的结果。
“好了，别浪费时间，实践才是检验一个模型有没有用的途径，卡森，你先把样品拿去做退火处理。”
退火炉可以同时放10片样品，操作起来比ALD沉积方便，3小时左右就能搞定。
“好。”
卡森点头。
许青舟先去材料处找过渡金属硫族化合，准确来说，金属硫族化合物WS，打算在石墨烯表面预沉积单层WS进行过渡。
利用Purcell效应增强单光子发射效率，界面缺陷的减少可抑制非辐射复合，提升光源纯度。
拿到WS，许青舟换好衣服进实验室。
使用铜箔，放入前驱体Sn，引入脉冲式前驱体加热，80°CD到120°C之间的循环。
在样品中加入其它物质，毫无疑问会增加实验难度，毕竟要确保各技术模块无缝兼容并最大化协同效应
除了在制作石墨烯衬底时每一步都需要精细，针对WS。后续还增加了一个手性等离子体脉冲预处理。
有条不紊地推进。
“呼”
许青舟望着设备中的样品，长吐了口气，心说还好没手生。
CVD石墨烯制备大约需要8小时，他也没傻等着，出去准备继续搞经济模型中离散小波变换的算法。
而卡森这边也正按照许青舟的要求，进行梯度退火。
下午三点，退火完成，卡森却没走。
“你嗯？”
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