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第610章 国产光刻机的研发进程至少缩短了十年（第2页）

林南坐在工位上，忍不住胡思乱想着。

上次MDP-EUV光源技术的事，他就问过梁劲松和陈延森。

梁劲松一头雾水，陈延森则让他别瞎打听，他也只能把满肚子好奇压在心底。

可这一次，他又按捺不住了。

实在是“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”的技术太强了，完全是一套完整且成熟的技术方案，由不得他不多想。

林南沉吟半晌，最后苦笑了一声，捏着手机的右手重新放下。

他知道有些问题，别人不想说，就代表不能说，或者说根本没有答案。

随后，他连忙召集核心研发人员开会。

会议室内，当大家看到文档中“多壳层椭圆结构”的三维模型时，原本沉闷的气氛瞬间沸腾。

光学系统设计组的主任工程师指着屏幕说道：“内层镜负责捕获中心60度范围内的EUV光，中层镜覆盖60到120度，外层镜补全120到180度，这样收集效率至少能提升到80%，压根就没法比，我们之前的那套方案跟垃圾有什么区别？”

更让众人惊喜的是热管理子系统！

文档中提出在镜体内部嵌入微通道水冷结构，搭配耐高温的钼铼合金基底，既能承受等离子体的高温冲击，又能避免温度过高导致多层膜脱落。

“我们最担心的‘高温损伤’问题，这套方案竟然连水冷通道的直径、水流速度都算好了！”

材料组的工程师翻到工艺参数页，激动地说道。

“对了，林工！这个梯度涂层的方案，从钼硅多层膜到二氧化硅保护层，每层的厚度误差控制在0.1纳米以内，还得用脉冲激光沉积法分80次沉积，这精度咱们的设备能达到吗？”

有人面露难色地担忧道。

林南皱起眉头，看向设备组的主任工程师问道：“蔡司镀膜机在恒温恒湿环境下，能不能把精度稳定控制在0.05到0.1纳米之间？”

设备组的主任工程师想了想，非常严谨地回答道：“连续沉积10层钼硅膜，厚度误差最小0.04纳米，最大0.09纳米，刚好能满足方案要求。

但问题是，每次换靶材、调整激光功率时，误差会出现0.12到0.15纳米的波动，80次沉积下来，累积误差可能会超标。”

林南思索片刻，给了一条解决思路：“那就加一道实时校准的流程，算法组先开发一套膜厚监测程序，跟镀膜机的传感器联动，每沉积10层，就自动暂停，用电子显微镜扫描膜厚。

根据实测数据调整下一轮的激光功率和沉积时间，把单次误差控制在0.05纳米以内。

另外，在镀膜机周围加一圈恒温罩，避免温度的负面影响。”

其他人闻言，顿时豁然明悟。

林南毕竟是沪城光学精密机械研究所的高级工程师，能力和技术兼而有之，又是胡锐晖极力推荐的人才，关键时刻能拿出行之有效的方案倒也正常。

事实上，在陈延森看来，像林南等人，智商、领悟力和创造力都不错，但苦于接触不到EUV光学的顶尖技术，这才像是鬼打墙似的，一直绕弯路。

若是能拥有同等的科研环境，林南未必开发不出一套收集镜系统，可很多事终究没有如果。

而陈延森能搞定这项技术，靠的也是远超常人百倍的精神力，以及能让他进入超频思维状态的【普朗克时钟】天赋。

不然以他原本的能力，或许也能突破这项技术，但要花费的时间，绝对不止半个月。

在拿到“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”的技术方案后，星源科技光学部上下，立刻投入全部精力，以最快的速度反复打磨、全力复现，力求将这套系统成功应用到实际生产中。

算法组连夜加班，三天内就完成了膜厚监测程序的开发。

该程序可以实时采集镀膜机的激光功率、沉积时间数据，还能自动生成膜厚误差曲线，当误差超过0.05纳米时，将会触发暂停指令，进而对精度进行实时校准。