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第230章 小露一手（第1页）

正在想事情的李元被问的一愣，刘燕重新问了一次。

“呃！在谈单晶硅时，先从多晶硅说起。

我专门调研过，京都玻璃厂生产的多晶硅纯度经过专门的化学提纯工艺，已经达到了9个9。

而我们制备单晶硅后纯度反而下降这么多。

这应该和单晶硅制备过程中的污染有关。

污染源应该主要有两个，一个是空气杂质污染，另一个就是电加热过程中释放的元素有关。

所以，刚才大家提到的控制纯度的方法都不错”。

这个老6，睁着眼说瞎话。

其实他只是听了一个开头，后面他们讨论的内容，只是大致搂了一耳朵，没有太往心里去。

因为所有的操作都有人的直接接触，这样的设计对操作员非常不友好。

他想到一个设备，真空炉，是老大哥援助的项目之一。

如今的真空炉虽然只有-3次幂，但是用于单晶硅制备已经足够。

唯一需要考虑的就是需要特制，那就是，需要在现有真空炉的上端增加一个圆筒。

圆筒最高端安装提拉装置。

只是这个装置不能再用丝杠，不然，圆筒设计的就要足够高。

如此，圆筒的强度、固定方式就会成为新的设计难点。

所以，使用特制的滑轨和绞索，外部使用电磁感应的方式进行驱动，就是最佳的选择。

刚才他就是在思考这个工艺问题。

他见大家都在等待下文，赶忙把真空炉的构想和大家全盘托出。

“这个主意妙啊！既解决了污染问题，也解决了人员防护问题”，老师A道。

“其实这个工艺，不仅仅能够解决以上问题，再改变设计，就能用于表面氧化处理”，老师B道。

“那如果再改变其外形，是不是可以用于金属物沉积？”，学生A道。

“金属物沉积其实不用这么复杂，可以使用氢气反应炉，直接采用气相沉积法”，李元提出了不一样的看法。

“氢气反应炉的制造难度较低，倒是个好主意。只是这个气相沉积法是个什么工艺”，老师A问道。

李元就把化学气相沉积的理论和方法向大家讲解一番。

“李元，你的知识太渊博，这个气相沉积法，你是哪里学到的？”。

老师B心中疑惑，搞了这么多年半导体，他对CVD技术只是了解到一个皮毛。

他也知道，现在西方正在半导体制备上使用这项技术。

由于封锁严密，他们一直无法一窥全貌。

如果李元真的掌握了这项技术，国产半导体就可以做到更小的体积，从而降低成本、提高成品率。