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第1847章（第2页）

而针对这项技术，市面上出现了两种方法。

那就是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法。

尼康等公司主张在前代的技术基础上，采用157NM的F2激光，走稳健道路。

而新生的EUVLLC联盟，则押注于更激进的极紫外技术，用仅有十几纳米的极紫外光，刻十纳米以下的芯片制程。

但不管是这两种技术中的哪一种，技术要求都极其不易。

然而在这个时候，台积电一个叫做林本间的鬼才工程师出现了。

降低光的波长，光源出发是根本方法，高中学生都知道，水会影响光的折射率。

在透镜和硅片之间加一层水，原有的193nm激光经过折射，不就直接越过了157nm的天堑，降低到132nm了！

林本间拿着这项沉浸式光刻方案，兴奋的跑去了米国、德国以及岛国，游说各家半导体巨头。

然而他的方案最终并没有得到认可，甚至还有不少人觉得这家伙就是来搞事的，甚至不止一次警告台积电。

毕竟这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。

所以，作为大厂的尼康，选择了在157nm上一条道走到黑，进行光刻机的技术突破。

而在这个时候，也正是阿斯麦公司登场的时候。

一个位于丹麦，只有几十人团队的小角色。

谁都没有想到，阿斯麦竟然和林本间一拍即合，二者赌了一波大的，竟然真的在几年后研发出了第一台样机。

也正是因为先人一步，他们成功拿下了IBM和台积电等大客户的订单，一跃成为了光刻机大厂。

然而，尼康虽然靠着技术突破，也研发出了干式微影157nm技术的成品，但毕竟被阿斯麦抢了风头，更何况波长还略落后于对手，等到一年后又完成了对浸润式技术的追赶，客户却已经不承认“老情人”，毕竟光刻机又不是小朋友玩具，更替要钱，学习更要成本。

至此，尼康在光刻机舞台上，正式黯然离场。