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第3134章 全球SPIE微光刻会议（第1页）

在赵长安看来，要说这些世界一流的企业里面，没有一点明白人，那是根本就不可能的事情，而是这些明白人根本就没有足够的话语权。

更重要的是sony，Panasonic，aiwa这些企业在个人便携式音乐播放器市场，尤其是中高端市场，以及形成了世界性的垄断地位，手握着大量的技术专利实体工厂，以及多年以来持续性的方向研究和数以亿美元计数的投资资金。

假如选择进入mp3市场，就等于一夜之间他们大量的工厂，数以万计的员工，以及积累了几十年的大量专利，几乎全部被清零。

这种等于壮士断腕的事情，基本上正常人都很难轻易的做到。

只有到了未来，随着mp3制式在世界音乐播放器市场形成不可阻挡的趋势和洪流，这些老大帝国的企业才会不得不痛苦的在现实面前低头。

这种情况用在目前新一代光刻机的研发上面也是如此，现在世界光刻机巨头是Nikon和，都依然在豪赌步进式光刻机。

而新进的造机新势力ASML，更是在老美的牵头下，发誓要在新一代的光刻机领域，打破Nikon和的技术和市场垄断，让欧美人也拥有世界最高科技前沿的光刻机企业。

目前Nikon和，在157nm深紫外激光波（DUV）步进式光刻机的研发上面，已经投入了几十亿美元，虽然处于世界领先地位，不过157nm的光会被现在所用的193nm镜片吸收，穿透率低，无论是镜片还是光刻胶都需要重新的研发配适，同时氧气对157nm光波吸收性很强，——这么一大堆的问题，都是目前世界上这几家（DUV）步进式光刻机在研发下一代光刻里面遇到的难题需要客服。

而且即使能够实现良品率的量产，157nm的DUV也只能把解析度提高23%，而对于之后的下一代光刻机，这似乎已经成了走到科技树极限的死胡同。

只不过因为前面天量的投资，使得Nikon和明知道157nm的DUV很有可能已经做到了这一方向的制程极限，然而那句话‘超前一步是天才，超前几步是疯子’的箴言，他们显然都很信奉，却依然在拼命的豪赌。

原因很简单，只有这么做他们才能依然保持着行业垄断，同时收回前期投入的几十亿美元的资金。

这个情况就像现在的个人便携式音乐播放器市场，他们不是不明白新技术的优势和代表着产品的未来方向。

而是不愿意新技术现在就在市场上蚕食他们的份额，更不愿意一切重来的推倒炉灶。

而且即使在研发157nm的DUV光刻机的时候，这两家公司也在多电子束，离子流技术，甚至浸没式光刻技术光刻技术，等等研发领域悄悄的组建了研究机构，并且大量的提前申请布局专利壁垒。

就比如在三年前的99年3月16日，Nikon公司就向专利局提交了浸没式光刻技术专利申请，专利名称是“Projeexposuremethodandsystem”。该PCT国际公开日是99年9月30日，国际公开号：WO99。

可以说是相当的鸡贼。

包括和ASML合作的麻省理工学院（MIT）林肯实验室，也在157nmDUV上努力的给ASML助力。

不过他们研究的方向有别于Nikon和在纯氮气中进行157nm光波雕刻，而是选择了离子水（纯化水）状态下的157nm浸没实验。

这个实验大致和Nikon的浸没式光刻技术专利差不多，都是研究在纯净水状态下157nmDUV的雕刻性能。

就在几天前的全球SPIE微光刻会议上，MIT做出研发报告157nm浸没实验的结果。

“在去离子水（纯化水）状态下的浸没实验，157nmDUV依然有着在纯氮环境下的诸多问题无法解决。然而对于193nm的曝光是足够透明的，在193nm浸没的情况下157nm问题常见的普遍困难都不存在，几乎等同于现今处于干式介质中193nm步进式光刻机效果。”