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第1696章 都有点不好意思了呢（第1页）

14号，情人节。

介于昨天晚上曲某人与佐佐木元聊的非常投机，还达成了许多默契。原本参观NEC丸之内总部大楼的计划，变成了参观NEC中央研究所。

从名字就能看出来，“中央研究所”是NEC旗下一系列研究机构中规模最大的，也是成立最早的。

49年创立，从最初的材料、器件，逐渐拓展到计算机系统和软件。

75年从东京迁至神奈川县川崎市，又成立了“未来技术研究室”，专注于十到三十年后的颠覆性技术。

（小日子的“县”相当于咱们的省，“市”相当于地级市或县级市。从面积上看，“县”相当于市，“市”相当于县）

76年开发出小日子首款量产的商用采用7.5微米工艺，集成2500个晶体管的4位微处理器μCOM-4。

77年开发出“沟槽电容器”结构，使存储密度提升4倍，成功研制64KDRAM。

78年开发电子束光刻技术，将集成电路线宽从5微米缩减至1微米，突破了当时的技术极限。

曲卓这次参观的重点，就是电子束光刻技术。

不但“摸”到了NEC自己的独立项目，还“摸”到了尼康和IBM通过专利共享，合作开发的NCR-EB1A原型机?。

图片上是IBM和尼康合作，在1980年推出的EL-3电子束光刻

（NCR-EB1A的图片没找着，应该跟同源同代的EL-3差不太多）

这玩意支持?1000万像素并行投射，将线宽推进到了0.1-0.5微米（100-500纳米）。?

而时下老美GCA最先进的DSW4800步进式光刻机，最小线宽是0.5到1微米。

当然了，电子束光刻机虽然精度更高，但和光学光刻机是没法比的。

NCR-EB1A一小时只能处理几平方厘米的晶圆，DSW4800每小时可以处理接近两百片晶圆。

普通的光学掩模成本也就大几千到一万多美元，电子束用的氮化硅掩模成本在十五到二十万美元。

所以，电子束光刻机只能用来做研发、小批量生产和制作精确模板，大规模制造还是得指望光学光刻机。

可但是，这玩意虽然对量产来说没有任何意义，但对曲某人有意义呀！

直接把他“购买力”从386推进到了奔腾四，加上倍频技术，将主频从M级直接拉到了G级……

小日鬼儿之所以大方的让曲卓看他们“宝贝”，当然不是为了炫耀，或者证明什么。